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1.光譜干涉測厚儀

這是一種利用光的干涉原理的膜厚計。當(dāng)光照射到被測量物體上時，它會從薄膜的正面和背面反射。這兩束反射光之間存在相移，并且這種相移取決于薄膜的厚度。當(dāng)波以相位重疊時，它們會相互加強(qiáng)，而當(dāng)它們以相反的相位重疊時，它們會相互破壞性干擾，因此可以通過測量這種干擾的差異來測量厚度。

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2.紅外線測厚儀

這是一種利用被測量物體對紅外線的吸收的厚度計。當(dāng)用紅外光照射被測物體時，根據(jù)被測物體的材質(zhì)和厚度，某些波長的紅外光會被吸收。利用此特性，根據(jù)散射透射或反射光所獲得的光譜來測量薄膜厚度。如果預(yù)先測出被測材料的吸收率與膜厚的關(guān)系，就能夠計算出目標(biāo)材料的膜厚。

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3.電磁測厚儀

這是一種利用磁通密度變化的膜厚計。該測量方法用于測量目標(biāo)形成在磁性金屬表面上的情況，利用了當(dāng)磁鐵單獨靠近金屬時與當(dāng)磁鐵靠近放置在金屬上的被測量物體時磁通密度發(fā)生變化的事實。但這只能在被測物體與金屬接觸且本身不是金屬時使用。

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4.渦流測厚儀

渦流涂層厚度計利用線圈產(chǎn)生的磁通量變化來測量目標(biāo)物體的厚度。通電線圈的周圍會產(chǎn)生磁通，當(dāng)線圈靠近測量物體時，磁通量會根據(jù)測量物體的厚度而變化。通過檢測磁通量的變化來測量物體的厚度。

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5.超聲波涂層測厚儀

超聲波測厚儀是利用超聲波的反射的厚度計。當(dāng)超聲波從被測量物體的表面發(fā)射時，它穿過物體的內(nèi)部，并從背面反射。根據(jù)反射發(fā)生的時間來測量厚度。

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例如，為了測量玻璃等透明薄膜的厚度，可以使用利用寬帶光的光譜干涉膜厚計或利用紅外光的紅外膜厚計。另一方面，這些類型的厚度計不能用于不透光的材料，例如金屬。

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測量薄金屬鍍膜時，使用利用磁通變化的電磁膜厚計或利用渦流的渦流膜厚計。此外，當(dāng)難以接觸被測物體時，也會使用非接觸式涂層測厚儀，例如超聲波涂層測厚儀。